دورية أكاديمية

Application of honeycomb pattern to Ti2AlN MAX phase films by plasma etching

التفاصيل البيبلوغرافية
العنوان: Application of honeycomb pattern to Ti2AlN MAX phase films by plasma etching
المؤلفون: Duran, SemihAff1, IDs00339024074079_cor1, Çiçek, Hikmet, Korkmaz, İsmail Hakkı, Efeoğlu, İhsan
المصدر: Applied Physics A: Materials Science & Processing. 130(5)
قاعدة البيانات: Springer Nature Journals
الوصف
تدمد:09478396
14320630
DOI:10.1007/s00339-024-07407-9